פוטוליתוגרפיה – הבדלי גרסאות

תוכן שנמחק תוכן שנוסף
ReutGold (שיחה | תרומות)
שורה 16:
'''חשיפה ופיתוח''' - Coating & Developing: בשלב זה חושפים את הפוטורזיסט ל[[תאורה]] אליה הוא רגיש (בדרך כלל [[UV]]) דרך מסכה עליה מוטבעת מראש ה[[גאומטריה]] אותה יש להדפיס על המצע.
 
'''איכול''' - Etching: בשלב זה, ולאחר חשיפת הפוטורזיסט, מאכלים את שכבת החומר שנחשףהחדשה זהשהתגלתה עתהלאחר מתחתחשיפת לפוטורזיסט שנחשףהפוטורזיסט בשלב הקודם, בתהליך איכול רטוב או [[איכול יבש]].
 
'''הסרת פוטורזיסט''' - Stripping: הסרת הפוטורזיסט שנותר.