הבדלים בין גרסאות בדף "ליטוגרפית קרן אלקטרונים"

תגיות: עריכה ממכשיר נייד עריכה דרך האתר הנייד
תגיות: עריכה ממכשיר נייד עריכה דרך האתר הנייד
 
== המערכת ==
מערכות ליתוגרפיה של קרני אלקטרונים מסחריות הן מערכות כתיבה ייעודיות לקרני אלקטרוניים והן יקרות מאוד (>&nbsp;מיליון דולר). ליישומי מחקר, מקובל מאוד להמיר [[מיקרוסקופ אלקטרונים]] למערכת ליתוגרפיה באמצעות תוספים בעלות נמוכה יחסית (<&nbsp;100 אלף דולר). מערכות כאלו בעלות רזולוציה קווית של ~ 20&nbsp;ננומטר (מאז 1990), בעוד שהמערכות הייעודיות הנוכחיות בעלות רזולוציה קווית בסדר גודל של 10&nbsp; ננומטר או פחות.
 
ניתן לסווג מערכות ליתוגרפיה של קרן אלקטרונים על פי צורת הקרן ואסטרטגיית הסטת הקורה. מערכות ישנות יותר השתמשו בקרניים גאוסיאניות וסריקת רסטר (הלוך ושוב). מערכות חדשות יותר משתמשות בקרניים מעוצבות, שיכולות להיות מוסטות למיקומים שונים בתחום הכתיבה (זה מכונה גם '''סריקת וקטור''' ).
 
=== מקורות אלקטרונים ===
 
=== זמן כתיבת קרן אלקטרונים ===
הזמן המינימלי לחשיפת אזור במינון נתון ניתן על ידי הנוסחה הבאה: <ref>{{Cite journal|title=High-throughput NGL electron-beam direct-write lithography system|last=Parker, N. W.|journal=Proc. SPIE|doi=10.1117/12.390042|year=2000|series=Emerging Lithographic Technologies IV|volume=3997|page=713|bibcode=2000SPIE.3997..713P|displayauthors=etal}}</ref>
 
: <math> D \cdot A = T\cdot I \,</math>