המכון למצב מוצק (הטכניון) – הבדלי גרסאות

תוכן שנמחק תוכן שנוסף
אין תקציר עריכה
מ קישורים פנימיים
שורה 4:
 
==פעילות המחקר במכון==
פעילות המחקר במכון נחלקת למחקרים שהם בסיסיים בעיקרם, למחקרי גישוש יישומיים ולמחקרים הסובבים סביב יישום חומרים [[מוליך למחצה|מוליכים למחצה]] וייצור [[אב טיפוס|אבטיפוס]] של התקנים אלקטרוניים ו[[אלקטרואופטיקה|אלקטרואופטיים]]. מעבדות השירות תומכות במחקר על ידי מתן שירותים לחוקרי הטכניון ולמשתמשי חוץ, תוך ניצול הציוד הייחודי הקיים במכון: מעבדת פני שטח, מעבדת השתלת [[יון|יונים]] ומעבדת [[קרני רנטגן]].
 
===מחקר בסיסי===
שורה 20:
 
===מחקר יישומי===
* שימוש בהשתלת יונים והרפיית נזקי הקרינהה[[קרינה]] ליצירת מבנים חדשים מוליכים למחצה
* השתלת יונים ביהלומים וחקירת השינויים בתכונותיהם האופטיות והחשמליות
* הכנת שכבות דקות דמויות יהלום על ידי [[שיקוע]] [[פחמן]] מאלומות יונים; הכנת שכבות [[יהלום]] על ידי פירוק מולקולות [[הידרוקרבון|הידרוקרבונריות]] על ידי [[פילמנט]] חם לצורכי ציפוי
* הכנת שכבות דקות של מוליכים למחצה בשיטות גידול אפיטקסיאלי מה[[פאזה (חומר)|פאזה]] הגזית, אפיון תכונותיהם, בניית [[לייזר]]ים והתקנים אופטו אלקטרוניים אחרים המתבססים עליהם
* פיתוח ובניית אבטיפוסים של התקנים אלקטרואופטיים המתבססים על Si ובעיקר על גבישים מרוכבים מהקבוצות III-V ו-II-VI. חקר גלאים לתתל[[תת-אדום]] המבוססים על מעברים בין תת-פסים בבורות ונקודות קוונטיות במוליכים למחצה וכאלה המבוססים על HgCdTe.
 
==קישורים חיצוניים==