פוטוליתוגרפיה – הבדלי גרסאות
תוכן שנמחק תוכן שנוסף
Eran.ishay (שיחה | תרומות) |
Eran.ishay (שיחה | תרומות) |
||
שורה 8:
== שלבים בתהליך ==
'''דפוזיציה''': השמת שכבת החומר להדפסה ([[נחושת]], [[אלומיניום]], [[סיליקון]], וכו'). ישנן מספר טכנולוגיות ייצור לשלב זה, בין השאר כתלות בחומר. שתיים מהנפוצות הינן [[Chemical Vapor Deposition]] ו [[Physical Vapor Deposition]].
'''ניקוי והכנה''': בשלב זה מנקים את המצע לפני הנחת ה[[פוטורזיסט]]. כתלות בסוג המוצר (PCB, FPD, Semiconductor, או אחרים) כך רמת הניקיון הנדרשת.
| |||